渦流探傷以交流電磁線圈在金屬構(gòu)面層的缺陷，不便使用于形狀復(fù)雜的構(gòu)件。在火力發(fā)電廠中主要應(yīng)用于檢測(cè)凝汽器管、汽輪機(jī)葉片、汽輪機(jī)轉(zhuǎn)子中心孔和焊縫等。原理當(dāng)交流電通入線圈時(shí)，若所用的電壓及頻率不變，則通過線圈的電流也將不變。如果在線圈中放入一金屬管，管子表面感生周向電流，即渦流。渦流磁場(chǎng)方向與外加電流的磁化方向相反，因此將抵消一部分外加電流，從而使線圈的阻抗、通過電流的大小相位均發(fā)生變化。管的直徑、厚度、電導(dǎo)率和磁導(dǎo) 率的變化以及有缺陷存在時(shí)，均會(huì)影響線圈的阻抗。若保持其他因素不變，僅將缺陷引起阻抗的信號(hào)取出，經(jīng)儀器放大并予檢測(cè)，就能達(dá)到探傷目的。渦流信號(hào)不僅能給出缺陷的大小，同時(shí)由于渦流探傷時(shí)可以根據(jù)表面下的渦流滯后于表面渦流一定相位，采用相位分析 能判斷出缺陷的位t(深度). 檢測(cè)線圈在渦流檢驗(yàn)中，為了適應(yīng)不同探傷目的，按照檢測(cè)線圈和被檢構(gòu)件的相互關(guān)系分為穿過式線圈、內(nèi)通式線圈和放里式線圈三大類。如需將工件插入并通過線圈檢測(cè)時(shí)采用穿過式線圈。對(duì)管件進(jìn)行檢測(cè)時(shí)，有時(shí)必須把線圈放入管子內(nèi)部進(jìn)行檢驗(yàn)，則渦流探傷采用內(nèi)通式線圈。采用放t式(點(diǎn)式)線圈時(shí)，把線圈放置于被查的工件表面進(jìn)行檢測(cè)。這種線圈體積小、線圈內(nèi)部一般帶有磁芯，靈敏度高，便于攜帶，適用于大型構(gòu)件以及板材、帶材等表面裂紋檢驗(yàn)。按照檢測(cè)線圈的使用方式，可分為線圈式、標(biāo)準(zhǔn)比較線圈式和自比較式等三種型式。只用一個(gè)檢測(cè)線圈稱為線圈式.用兩個(gè)檢測(cè)線圈接成差動(dòng)形式，稱為標(biāo)準(zhǔn)比較線圈式。采用兩個(gè)線圈放于同一被檢構(gòu)件的不同部位，作為比較標(biāo)準(zhǔn)線圈，稱自比較式，是標(biāo)準(zhǔn)比較線圈式的特例。基本電路由振蕩器、檢測(cè)線圈信號(hào)輸出電路、放大器、信號(hào)處理器、顯示器和電源等部分組成。
渦流探傷與超聲波探傷的區(qū)別
超聲波探傷是利用超聲能透入金屬材料的深處，并由一截面進(jìn)入另一截面時(shí)，在界面邊緣發(fā)生反射的特點(diǎn)來檢查零件缺陷的一種方法，當(dāng)超聲波束自零件表面由探頭通至金屬內(nèi)部，遇到缺陷與零件底面時(shí)就分別發(fā)生反射波來，在熒光屏上形成脈沖波形，根據(jù)這些脈沖波形來判斷缺陷位置和大小。
渦流檢測(cè)就是運(yùn)用電磁感應(yīng)原理，將正弦波電流激勵(lì)探頭線圈，當(dāng)探頭接近金屬表面時(shí)，線圈周圍的交變磁場(chǎng)在金屬表面產(chǎn)生感應(yīng)電流。對(duì)于平板金屬，感應(yīng)電流的流向是以線圈同心的圓形，形似旋渦，稱為渦流。同時(shí)渦流也產(chǎn)生相同頻率的磁場(chǎng)，其方向與線圈磁場(chǎng)方向相反。
渦流通道的損耗電阻，以及渦流探傷的渦流產(chǎn)生的反磁通，又反射到探頭線圈，改變了線圈的電流大小及相位，即改變了線圈的阻抗。因此，探頭在金屬表面移動(dòng)，遇到缺陷或材質(zhì)、尺寸等變化時(shí)，使得渦流磁場(chǎng)對(duì)線圈的反作用不同，引起線圈阻抗變化，通過渦流檢測(cè)儀器測(cè)量出這種變化量就能鑒別金屬表面有無缺陷或其它物理性質(zhì)變化。
影響渦流場(chǎng)的因素有很多，諸如探頭線圈與被測(cè)材料的耦合程度，材料的形狀和尺寸、電導(dǎo)率、導(dǎo)磁率、以及缺陷等等。因此，利用渦流原理可以解決金屬材料探傷、測(cè)厚、分選等問題。
渦流探傷是由交流電流產(chǎn)生的交變磁場(chǎng)作用于待探傷的導(dǎo)電材料，感應(yīng)出電渦流。如果材料中有缺陷，它將干擾所產(chǎn)生的電渦流，即形成干擾信號(hào)。用渦流探傷儀檢測(cè)出其干擾信號(hào)，就可知道缺陷的狀況。渦流的因素很多，即是說渦流中載有豐富的信號(hào)，這些信號(hào)與材料的很多因素有關(guān)，如何將其中有用的信號(hào)從諸多的信號(hào)中一一分離出來，是目前渦流研究工作者的難題，多年來已經(jīng)取得了一些進(jìn)展，在一定條件下可解決一些問題，但還遠(yuǎn)不能滿足現(xiàn)場(chǎng)的要求，有待于大力發(fā)展。
